南京负责非接触掩膜光刻机的步进系统，这个系统在1963年蒋筑英初构想光刻机的时候并未考虑到，但深入下去之后才意识到光刻机从接触式改非接触式之后要一个步进系统，而且，这个步进系统是光刻机的核心器件之一。

接触式掩膜光刻机用的不是步进系统，是对准系统。掩膜要放在硅片上固定，直接和硅片接触，而且从第二代光刻机开始采用多次曝光的方法来“晒"硅片上的光刻胶，掩膜就要重复放下去固定照射抬起来再放下去固定的过程，对准系统就是干这个用的。保证掩模重复抬起放置时，定位在精确的位置的能力。

非接触掩膜光刻机用的不是汞灯而是激光器，光路发散聚焦再发散再聚焦，最后光线汇聚照射在单晶硅片表面的某一区域，让这一区域“显影"出芯片的图案，就要硅片不停地移动，完成多次曝光。“咔”“咔”“咔嗪”“.蒋筑英去的南电集团的实验室以前是做雷达的旋转系统的，这倒是和步进系统有点沾边，造出来的机器的基本要求都是一样的：要做极致精确的运动。将筑英进实验室的时候，南电的实验室管理员让他先进到一个小隔间，然后指着一套看起来像防化服的装具：“您好，进去之前，得先穿上它，然后再进入洗尘间，然后才能进入工作间。”蒋筑英：“啊呀，老程不得了，你们都搞无尘车间了。”步进系统的设计主任老程说道：“现在的问题是，即使有二小粒10微米直径的灰尘进入了步进系统的激光对准眼，这个仪器就可能发生光路不准的情况。还有啊，蒋主任，我不得不说一句，将来你们

光刻机如果进入到10微米以下、5微米、3微米，最后必然是要使用无尘车间。

蒋筑英：“我有这个想法，但没想到的是，你们步进系统首先意识到无尘车间的必要性。”老程：“我觉得你们现在就可以用10微米的生产线，改造成一个无尘的环境试一试，我觉得，真正无尘的环境下生产线的良品率肯定有一个肉眼可见的涨幅。”

非接触掩膜光刻机原型机使用的是10厘米（4英寸）单晶硅切成的硅片，像个茶杯垫。在1958年，李强和黄昆突然想用平面工艺生产芯片的时候，国内生产的单晶硅柱只能切出5厘米（2英寸）的单晶硅片，掌在手里就跟一块银元似的。

10厘米单晶硅无疑大大提高了芯片的生产效率，降低了生产成本，但也对单晶硅的品质以及整个芯片生产线的精度提出了新的要求。这曾是第五代（接触式）光刻机研制时最难解决的问题。蒋筑英的非接触式原型机也用10厘米单晶硅，很多工艺其实是沿用第五和第六代（接触式）光刻机上的半现成设计。但在计入定型前的最后

设计阶段，李强突然从北京打了个电话：

“蒋筑英啊，如果将来的单晶硅从10厘米扩大到15厘米，这种6寸硅晶圆掌来做芯片，光刻机尤其是那个步进系统你们想好如何修改吗？”蒋筑英“.李强：“15厘米之后是20厘米，之后是30厘米，你要考虑考虑，这些最后都要兼容哟。如果搭架子的时候为这些做好准备，那么光刻机的后续发展就会顺利很多。”将筑英把李强的压力传导到了南京，南京老程被迫眼泪注注地把步进系统的软硬件都设计为具有强扩展性的半开放式系统。半开放式系统还有另一个好处，就是它既可以在光刻普通芯片（比如处理器、内存芯片）的时候提供步进动作，在刻CCD、刻太阳能电池板的时候也可以很方便地切换过去，CCD（电荷耦合器件）现在在电子行业内部已经不是秘密了，不只是数码成像数字传输的侦察卫星，其他的产品线也在蠢蠢欲动，各家都在研究电荷耦合器件的数字成像技术。

“你好，请问您要去哪？”“我去庆春路，庆春路的南边，我认识路，到了地方我让你停车就行。”“好嘞。”杭州火车站。蒋筑英从南京出差归来就是9月29旦了，第二天下午他就和妻子一起坐火车回到了杭州。出火车站，蒋筑英照例打了一辆“三蹦子”。从火车站到庆春路爸妈住的地方其实很快，十几分钟

就到了。蒋筑英拎看皮箱、妻子背看大背包跳下三蹦子，他俩意外地发现一一家门口停了一辆车。

是那种苏联的老版轿车。“您好，是蒋筑英同志吗？”蒋筑英：“是啊。”“这位一定是您的爱人吧。”

“是啊。请问您是..”“我是浙江省国资委的，“在家门口轿车旁的访客恭敬地说道，“我们对您和倪光南提出的微型计算机项目很感兴趣，不知道有没有兴趣仔细聊一聊？”